- 英語表記
- Lightly Doped Drain
「ソース」「ドレイン」とチャンネルの間に、少ないイオン(ドーズ量:1E13ions/cm2近辺)を用いてイオン注入で低濃度の不純物領域を設けて、ここに高電界が集中しないようにした電界効果トランジスタの構造。
イオン注入ディクショナリーIon Implantation dictionary
装置に関連する用語
「ソース」「ドレイン」とチャンネルの間に、少ないイオン(ドーズ量:1E13ions/cm2近辺)を用いてイオン注入で低濃度の不純物領域を設けて、ここに高電界が集中しないようにした電界効果トランジスタの構造。