IMPHEAT-II

半導体製造用イオン注入装置

IMPHEAT-II

高温搬送の信頼性とスループットをIMPHEATからさらに進化させた高温イオン注入装置

特長

業界最高の生産性を持つ高温イオン注入装置で、SiCパワーデバイス向けアルミニウム(AI）注入が可能

• 室温から500℃までをカバー
• 業界最高の高温スループット
• 生産性に寄与する大電流Al+ビーム
• ウェーハサイズ：4/6/8インチ

豊富な納入実績のあるEXCEEDをベースに開発

• 高信頼性
• 保守部材の共通化