半導体製造用イオン注入装置
EXCEED9600Aシリーズ
ナノ・テクノロジー・ノードに対応した高い生産性と
プロセス信頼性を有した豊富な実績の中電流イオン注入装置
特長
最適なライン構成に寄与するモデル
- 高エネルギー注入にも対応するオールラウンダー
業界最高の生産性
- 薄ウェーハ等、多様な基板に対応した搬送システム
- 低エネルギービーム量向上
- 平均オートチューン時間＜2分
市場で実証された注入品質
- エネルギーコンタミネーションの完全除去
- 水平・垂直両方向のビーム角度フィードバックシステム：多点ファラデーシステム
同一プラットフォーム上での進化
- 信頼性・プロセス互換性・パーツ互換性を維持した、最少リスクでの性能向上
