イオン注入装置 - 日新イオン機器株式会社

英語表記: ion implanter , ion implantation system

速度（運動エネルギー）を持ったイオンを物質に打ち込むための装置で、イオン発生するイオン源、イオンを輸送するビームライン、イオンを注入するためのエンドステーションなどで構成される。イオン注入装置は、半導体材料の電気的特性を制御するためのプロセスに使われることが多い。通常、発生するイオンビームのビーム量及びエネルギーによって、中電流イオン注入装置、大電流イオン注入装置、高エネルギーイオン注入装置に分類される。