半導体製造用イオン注入装置EQUIPMENT

半導体は家電からインフラまで暮らしの中で欠かせない存在であり、さらにEV、
カーボンニュートラル分野にも幅広く拡大していきます。

半導体は家電からインフラまで暮らしの中で欠かせない存在であり、さらにEV、カーボンニュートラル分野にも幅広く拡大していきます。

当社の半導体製造用イオン注入装置は汎用性が高い中電流装置から省エネやSDGsの関心が高まる中で普及が期待されているパワーデバイス向けの装置にも対応しています。

生産性、技術、性能は日々向上が求められており、お客様の要求に応えるべく最先端デバイスの生産にも対応可能な装置の開発を継続して参ります。

当社の半導体製造用イオン注入装置は、コンピューターのCPU、DRAM、フラッシュメモリー、システムLSIをはじめ、電化製品等に搭載されるマイコンやインバーター、車載用半導体、
デジタルカメラ用のイメージセンサーなど多種多様な半導体製品の製造に不可欠な装置として、世界のお客様にご使用いただいております。

当社の半導体製造用イオン注入装置は、コンピューターのCPU、DRAM、フラッシュメモリー、システムLSIをはじめ、電化製品等に搭載されるマイコンやインバーター、車載用半導体、デジタルカメラ用のイメージセンサーなど多種多様な半導体製品の製造に不可欠な装置として、世界のお客様にご使用いただいております。

当社は、環境意識の高まりによるデバイスニーズを装置開発に反映し、通常の半導体素子に比べ高電圧・大電流をより効率的に扱える電力機器向けの半導体素子で、省エネ目的でEV車や
HEV車、家電製品への活用で注目されるパワーデバイスの製造に対応した、量産用高温
イオン注入装置である”IMPHEAT”を開発、販売しています。

当社は、環境意識の高まりによるデバイスニーズを装置開発に反映し、通常の半導体素子に比べ高電圧・大電流をより効率的に扱える電力機器向けの半導体素子で、省エネ目的でEV車やHEV車、家電製品への活用で注目されるパワーデバイスの製造に対応した、量産用高温イオン注入装置である”IMPHEAT”を開発、販売しています。

半導体製品の広がりに合わせて、注入イオン種も従来とは異なるものが生産に使用されてきています。例えば、近年注目されているパワーデバイスの製造には、アルミニウム(Al)や水素(H)の
イオン注入が用いられるようになり、当社はデバイスニーズに合わせたイオン注入装置を世界に提供させていただいております。

半導体製品の広がりに合わせて、注入イオン種も従来とは異なるものが生産に使用されてきています。例えば、近年注目されているパワーデバイスの製造には、アルミニウム(Al)や水素(H)のイオン注入が用いられるようになり、当社はデバイスニーズに合わせたイオン注入装置を世界に提供させていただいております。