
半導体製造用イオン注入装置
LUXiON
通常ドーパントに加えて、フッ素等の特殊イオンでの高生産性を実現した大電流イオン注入装置
特長
低金属汚染と高生産性を併せ持つ大電流イオン注入装置
- フラットパネル業界を独占するFPD製造用イオン注入装置の技術を活かした大面積ビームによる高生産性
- 低金属汚染
- ウェーハサイズ:12インチ
独自性と信頼性の融合
- フラットパネル業界を独占する大面積ビーム技術
- ロングセラーの中電流イオン注入装置で蓄積した技術とノウハウ

通常ドーパントに加えて、フッ素等の特殊イオンでの高生産性を実現した大電流イオン注入装置
低金属汚染と高生産性を併せ持つ大電流イオン注入装置
独自性と信頼性の融合