IMPHEAT-II

半导体制造用离子注入装置

IMPHEAT-II

让高温搬送的可靠性和处理量从IMPHEAT得到进化的高温离子注入装置

特长

为具有行业最高生产率的高温离子注入装置，可进行SiC功率器件用铝(Al)注入

• 可覆盖从室温到500℃的范围
• 行业最高的高温处理量
• 有助于生产率的大电流Al+电子束
• 晶圆尺寸：4/6/8英寸

以具有丰富交货实绩的EXCEED为基础进行开发

• 可靠性高
• 维护部件的通用化