半导体制造用离子注入装置EQUIPMENT

人与生活的接触点―LSI(半导体)

从家电到基础设施,半导体在生活中是不可或缺的存在,而且范围也将扩大到EV和碳中和领域。

从家电到基础设施,半导体在生活中是不可或缺的存在,而且范围也将扩大到EV和碳中和领域。

本公司的半导体制造用离子注入装置中,不但有泛用性高的中电流装置,而且也有与大众普遍注重的节能和SDGs相关的功率器件用装置。

在对生产效率、技术和性能要求日益增高的情况下,本公司将持续开发最先端的生产装置,以满足客户的要求,

半導体

多种多样的用途

本公司的半导体制造用离子注入装置被世界各地的客户用作制造半导体产品是不可或缺的设备,主要包括在,计算机的CPU、DRAM、闪存、系统LSI以及电器的微控制器和变频器、汽车半导体和数码相机的图像传感器等领域。

本公司的半导体制造用离子注入装置被世界各地的客户用作制造半导体产品是不可或缺的设备,主要包括在,计算机的CPU、DRAM、闪存、系统LSI以及电器的微控制器和变频器、汽车半导体和数码相机的图像传感器等领域。

半導体

高温离子注入装置

公司在装置开发中反映了日益增长的环保意识的设备需求,开发并正在销售量产用高温离子注入装置“IMPHEAT”,它与通常的半导体装置相比,能更高率地处理高电压和大电流的电力机器用半导体器件,在EV汽车、HEV汽车和家电产品等节能方面受到关注。

公司在装置开发中反映了日益增长的环保意识的设备需求,开发并正在销售量产用高温离子注入装置“IMPHEAT”,它与通常的半导体装置相比,能更高率地处理高电压和大电流的电力机器用半导体器件,在EV汽车、HEV汽车和家电产品等节能方面受到关注。

EV

支持多种离子种类

为适应半导体产品的范围扩大,已经开始把与以前不同的注入离子种类用于生产中。比如,对于近年引人注目的功率器件的制造,已经开始采用铝(Al)和氢(H)等的离子注入,本公司正向世界提供符合装置需求的离子注入装置。

为适应半导体产品的范围扩大,已经开始把与以前不同的注入离子种类用于生产中。比如,对于近年引人注目的功率器件的制造,已经开始采用铝(Al)和氢(H)等的离子注入,本公司正向世界提供符合装置需求的离子注入装置。

世界へ提供

LINEUP

IMPHEAT-II

量产用高温离子注入装置

EXCEED400HY

行业唯一的激光/功率器件用氢注入装置

EXCEED系列

具有能应对纳米技术节点的高生产率和工艺可靠性、并在丰富实绩中,中电流离子注入装置适用于多样性衬底的高可靠性搬送系统。

EXCEED3000AH系列

MAX Energy:750keV

EXCEED9600A系列

MAX Energy:960keV