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弊社研究者がイオン注入国際会議でYoung Researcher Awardを受賞しました。

9月23日~26日に富山で開催されたイオン注入の国際会議IIT2024(24th International Conference on Ion Implantation Technology 2024)にて、当社研究者の甲斐裕章がYoung Researcher Awardを受賞しました。本国際会議はイオン注入分野では最も著名なもののひとつであり、この分野に関連する多くの研究者、装置メーカーが一堂に会する場となっています。(詳細は”こちら”をご参照ください)

              賞状

受賞したのはNew Operation Method for Ion Source Parameters to Improve Single Ionization Efficiencyと題したポスター発表で、イオン生成部の電位をコントロールすることによってイオンの生成効率を高めるという技術に関するものです。イオン源寿命を延ばす効果があり、弊社イオン注入装置の生産性を高めることに貢献します。

弊社は今後も世界が求めるイノベーティブな製造装置をいち早くお届けすることを通じて、お客様の発展と持続可能な社会の実現に貢献します。