イオンビームエッチング　（IBE)

イオンビームエッチングは、パターンが形成されたマスクを用いて、荷電粒子（イオンビーム）を照射ることで対象となる物質を加工する技術。加工メカニズムは、加速されたイオンを対象物に衝突させ、スパッタリングにより物理的に除去します。反応性エッチング（RIE:Reactive ion etching)で加工することが困難な金属膜等の加工に用いられます。