- 英語表記
- Advanced process control
トランジスタなどの機能素子のウェハ間、ウェハ内での特性ばらつきを低減するために、対象工程より前のプロセスの情報をフィードフォワードすること。イオン注入では、ゲート酸化膜厚やトランジスタのゲート長の情報から、ハロー注入量を調整することでしきい値電圧(Vth)のばらつきを低減できる。ウェハ毎に注入量を変更したり、ウェハ内で注入量を変更することが可能である。
イオン注入ディクショナリーIon Implantation dictionary
プロセスに関連する用語
トランジスタなどの機能素子のウェハ間、ウェハ内での特性ばらつきを低減するために、対象工程より前のプロセスの情報をフィードフォワードすること。イオン注入では、ゲート酸化膜厚やトランジスタのゲート長の情報から、ハロー注入量を調整することでしきい値電圧(Vth)のばらつきを低減できる。ウェハ毎に注入量を変更したり、ウェハ内で注入量を変更することが可能である。