イオン注入ディクショナリーIon Implantation dictionary

装置に関連する用語

注入均一性

英語表記
Uniformity wafer-to-wafer uniformty dose uniformity

イオン注入装置の能力を測り、動作を確認するパラメータのひとつに、注入均一性がある。注入均一性は、シート抵抗やダメージ測定などの手法で測定され、ウェーハ面内に注入されたイオンの分布の均一さと表現することもでき、特にウェーハ内注入均一性(ウェーハ面内均一性)と呼ぶこともある。このほか、同一の注入条件で処理した複数のウェーハ間で、ウェーハ間での注入処理の再現性を見るために、それぞれのウェーハのシート抵抗値やダメージ値の平均値の均一さに着目する場合は、ウェーハ間注入均一性と呼ぶ。