中電流イオン注入装置

イオン注入装置は、設計上の特徴や、過去の発展経緯などから、中電流イオン注入装置、大電流イオン注入装置、高エネルギーイオン注入装置に分類される。中電流イオン注入装置は、主に、300kV加速のエネルギー以下、1E14 ions / cm2以下の中・低ドーズ量を注入するプロセスに用いられる。中電流イオン注入装置のもうひとつの特徴は、枚葉処理のエンドステーションを備え、その回転注入機構により高精度、広範囲の注入角度（チルト角度、オリフラ角度）で注入が行えることであり、立体構造の注入分布制御に用いられる。