- 英語表記
- high current ion implanter
イオン注入装置は、設計上の特徴や、過去の発展経緯などから、中電流イオン注入装置、大電流イオン注入装置、高エネルギーイオン注入装置に分類される。大電流イオン注入装置は、従来はバッチ処理方式の装置が主流であったが、高精度注入への要求により枚様式の装置が用いられる。最大エネルギーは100keV程度に抑えているものが多い。主として、高ドーズの注入プロセスに用いられる。
イオン注入ディクショナリーIon Implantation dictionary
装置に関連する用語
イオン注入装置は、設計上の特徴や、過去の発展経緯などから、中電流イオン注入装置、大電流イオン注入装置、高エネルギーイオン注入装置に分類される。大電流イオン注入装置は、従来はバッチ処理方式の装置が主流であったが、高精度注入への要求により枚様式の装置が用いられる。最大エネルギーは100keV程度に抑えているものが多い。主として、高ドーズの注入プロセスに用いられる。