酸化物半導体

ＩＧＺＯが広く知られている。絶縁性を示す酸化が多い中で、半導体の特徴を有する化合物からなり、主に、ＴＦＴのシリコンの代わりに用いられる。製造時の温度が低く、アモルファスシリコンに比べて反応速度が速く、ＴＦＴにした時のＯＦＦ電流が低い事また、透明であるが特徴としてあげられる。