高エネルギーイオン注入装置

イオン注入装置は、設計上の特徴や、過去の発展経緯などから、中電流イオン注入装置、大電流イオン注入装置、高エネルギーイオン注入装置に分類される。高エネルギーイオン注入装置は、300kVを超えるような高いエネルギーのイオンを注入する装置で、静電加速による装置と、高周波加速（RF加速）による装置がある。主として、半導体デバイス構造上、深い位置への注入に用いられる。