パラレルビーム

イオン注入を行う際、ウェーハ上の全ての位置において、ウェーハに対して一定の角度でイオン注入が行えるよう、平行なイオンビーム（パラレルビーム）が用いられる。パラレルビームを発生させる方法としては、電場もしくは磁場スキャンとコリメータを組み合わせる方法などがあり、最近の中電流イオン注入装置では、主流となっている。また、パラレルビームを用いず、スキャンしたビームをそのまま用いて注入する方式をアンギュラースキャン（角度スキャン）という。