イオン注入ディクショナリーIon Implantation dictionary

装置に関連する用語

ソース/ドレイン

英語表記
Source/Drain

電界効果トランジスタは、3種類の端子「ゲート」「ソース」「ドレイン」で構成されており、「ソース」および「ドレイン」部は、主にイオン注入を用いて形成される。比較的多くのイオン(ドーズ量: >5E14ions/cm2)が必要で、p型トランジスタはリンイオンを、n型トランジスタは、ボロンイオンが用いられる場合が多い。