セルフアライメント

半導体等の集積回路作成プロセスにおいて、すでに形成されたパターンを次のプロセスのマスクと使用し、マスクの位置合わせ無しで次のプロセスを可能とする方法。高価なマスクの枚数を減らせるだけでなく、マスクのアライメントずれの心配がないことから、アライメントマージンを減らすことができる、寄生容量の低減、さらには短チャネル化が可能になる。