クロスコンタミネーション

設定以外のイオンが注入されると、デバイス特性に影響を及ぼすことがあるが、この中で、イオン注入装置内部の構成材料に起因するコンタミネーションを、クロスコンタミネーションという。例えば、実施中のプロセスの前に使用していたイオン種が、何らかの理由によりウェーハに注入（あるいは付着）されたりする場合があげられる。クロスコンタミが発生する理由には、例えば、プラテン周辺でビームがヒットする部分から、ビームによるスパッタリングによってコンタミネーションがウェーハに付着する例などがある。