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日新電機株式会社、HVEE (High Voltage Engineering Europe)社と技術提携
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イオン注入装置生産開始
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200kV中電流イオン注入装置開発
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ウェスタンエレクトリック（現AT&T） 30kV大電流イオン注入装置の技術導入
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200kV中電流イオン注入装置（ベルト搬送エンドステーション）”NH-20C”開発
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200kV大電流イオン注入装置”PR-200″開発
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イオン機器事業部設置
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中電流イオン注入装置”NH-20S”のフルオート、デュアルエンドステーション”NH-20SD”発売
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80kV大電流イオン注入装置”PR-80″発売
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久世工場新設・移転、回転注入エンドステーション開発
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新型中電流イオン注入装置”NH-20SR”発売
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新型大電流イオン注入装置”PR-80A”、新型デュアルエンドステーション”NH-20SDR”発売
フラットパネルディスプレイ用イオン注入装置事業を開始
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8インチパラレルビーム中電流イオン注入装置”NH-20SP”開発
量産用400kV中電流イオン注入装置”NH-40SR”納入
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低温ポリシリコンTFT(LTPS-TFT)ディスプレイ用イオン注入装置(イオンドーピング)の1号機を納入
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8インチ大電流イオン注入装置”EXCEED8000″開発
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回転注入機構付き中電流イオン注入装置で”市村産業賞”受賞
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新型中電流イオン注入装置”EXCEED2000″開発
量産用500kV中電流イオン注入装置”NH-50SR”開発
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LTPS-TFTディスプレイ用イオン注入装置(イオンドーピング)納入本格化
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英国（スコットランド）に日新電機欧州会社設立
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改良型8インチパラレル中電流イオン注入装置”EXCEED2000A”発売開始
LTPS-TFTディスプレイ用イオン注入装置(イオンドーピング)”ID5600″”ID6700″を納入開始
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300ｍｍウェハ用イオン注入装置”EXCEED2300″顧客評価開始
日新電機株式会社より製造移管を受け”日新イオン機器株式会社”設立
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量産用300ｍｍウェハ用イオン注入装置”EXCEED2300″納入開始
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台湾に合弁会社”日亞聯合離子機器股份有限公司”設立
中国（上海）に駐在員事務所開設
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韓国に子会社”韓国日新イオン株式会社”設立
中国（上海）に子会社”日亞意旺机械（上海）有限公司”設立
シンガポールに日新イオン機器株式会社”シンガポール支店”開設
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資本金を4．9億円から15億円に増資
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新型300ｍｍウェハ用イオン注入装置”EXCEED3000AH”発売開始
第4.5世代基板サイズ(730mm×920mm)のLTPS-ＴＦＴディスプレイ用イオン注入装置”iG4″を納入開始
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滋賀県甲賀市に滋賀事業所・プラズマ技術開発センターを開設
日新電機株式会社より製造移管事業に関する営業権譲渡を受ける
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注入エネルギー領域を最大960KeV迄拡大した300mmウェハ用イオン注入装置”EXCEED9600A”発売開始
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世界初のクラスターイオンビームを用いたハイブリット型イオン注入装置”CLARIS”発売開始
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米国（テキサス州）に100％子会社として”NISSIN ION EQUIPMENT USA, Inc.”設立
パワー半導体用高温注入装置”IMPHEAT”を納入開始
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- 中国江蘇省揚州市に100％出資の生産子会社として”日新意旺高科技(揚州)有限公司”を設立
- 世界初の第5.5世代基板サイズ（1300mm×1500mm）対応のLTPS-TFTディスプレイ用イオン注入装置”iG5″を開発・納入
- 世界初の第6世代基板サイズ（1500mm×1800mm）対応のLTPS-TFTディスプレイ用イオン注入装置”iG6″を開発・納入
- 滋賀事業所に工場第二エリアを増築
- 米国子会社”NISSIN ION EQUIPMENT USA, Inc.”に研究開発組織を新設、拠点をマサチューセッツ州ボストン近郊に設置
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半導体用イオン注入装置”BeyEX(-H)”を納入開始
半導体用イオン注入装置”EXCEED3000AH-8C”を納入開始
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滋賀事業所に工場第三期エリアを増築
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VCSEL用水素注入装置”EXCEED400HY”を納入開始
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パワー半導体用新型高温注入装置”IMPHEAT-II”開発
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滋賀事業所に事務棟を増築
本社機能を東寺オフィスに移転
