事業・製品紹介

半導体製造用イオン注入装置

半導体製造用イオン注入装置

人と暮らしの接点 ― LSI(半導体)

半導体製造装置分野では、日新イオン機器は日本を代表するイオン注入装置の専業メーカーとして、中電流イオン注入装置を中心に量産用から研究用まで各種イオン注入装置を提供しています。
各種イオン注入装置の中でも中電流イオン注入装置は汎用性が高く、半導体デバイスの製造プロセスで最も多く使われており、日新電機での創業時以来40年近い歴史を持っています。この源流を汲む当社は、会社創立時から中電流イオン注入装置をフラッグシップとして製造・開発を進め、これまでに多くの台数を世界のお客様へ納入してまいりました。現在も、高いマーケットシェアを維持しています。

多種多様な用途

日新イオン機器の半導体製造用イオン注入装置は、コンピューターのCPU、DRAM、フラッシュメモリー、システムLSIをはじめ、電化製品等に搭載されるマイコンやインバーター、車載用半導体、デジタルカメラ用のイメージセンサーなど多種多様な半導体製品の製造に不可欠な装置として、世界のお客様にご使用いただいております。

微細化対応

近年の半導体デバイスの微細化に伴い、極浅接合形成に対しても精密且つ高い生産性が要求されています。 日新イオン機器は、世界で初めて、B10H14(デカボラン),B18H22(オクタデカボラン)に代表されるクラスター分子をイオン化させたクラスターイオンを用いることで、極浅接合形成に必要とされる500eV以下の極低エネルギーにおいても高生産性且つ高品質なイオン注入が可能なイオン注入装置"CLARIS®"を製品化しています。

高温注入対応

日新イオン機器は、環境意識の高まりによるデバイスニーズを装置開発に反映し、通常の半導体素子に比べ高電圧・大電流をより効率的に扱える電力機器向けの半導体素子で、省エネ目的でEV車やHEV車、家電製品への活用で注目されるパワーデバイスの製造に対応した、量産用高温イオン注入装置である"IMPHEAT®"を開発、販売しています。

製品ラインナップ

  • CLARIS®
     次世代デバイスに対応したクラスターイオン注入装置
  • IMPHEAT®
     業界唯一の量産用高温イオン注入装置
  • EXCEED®シリーズ
     ナノ・テクノロジー・ノードに対応した高い生産性と
     プロセス信頼性を有した豊富な実績の中電流イオン注入装置
     EXCEED3000AH/-Ev/-Evo/-Evo2 MAX Energy:750keV
     EXCEED9600A/-Ev/-Evo/-Evo2 MAX Energy:960keV

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