事業・製品紹介

FPD製造用イオン注入装置

FPD製造用イオン注入装置

人と情報の接点 ― FPD(フラットパネルディスプレイ)

フラットパネルディスプレイ(FPD)製造装置分野では、日新イオン機器は、駆動回路である薄膜トランジスタ(TFT)の製造装置における最先端の高品位機種で、高画質・高精細・高機能を実現する低温ポリシリコン(LTPS)TFT・ディスプレイ製造用のイオン注入装置(イオンドーピング®装置)を1988年に世界に先駆けて開発、以来多くの納入台数を重ね、同装置の世界市場で圧倒的且つ確固たる地位を築いてまいりました。

中小型高品位ディスプレイに不可欠

日新イオン機器のFPD製造用イオン注入装置は、主に中小型高品位ディスプレイに使用されている液晶ディスプレイ(LCD)、有機ELディスプレイ(OLED)の製造には必要不可欠な重要装置です。スマートフォンやハイエンドの携帯電話をはじめ、デジタルスチルカメラ(DSC)、ビデオカメラ、メディアプレイヤー、ポータブルゲーム機などのアプリケーションの高画質・高精細のディスプレイには、LTPS-TFTが最も優れたテクノロジーとして認められており、当社はLTPS-TFT製造用イオン注入装置のパイオニアでありリーディングサプライヤとして貢献しております。

生産性向上への取り組み

中小型ディスプレイの製造には4.5世代(730mm×920mm)サイズ以下のガラス基板が採用されてきましたが、スマートフォンの世界的な需要急増を契機に、より生産能力の高い量産ラインの構築が求められるようになり、各ディスプレイパネルメーカー(パネルメーカー)で5.5世代(1,300mm×1,500mm)以上のガラス基板に対応したプロセス装置の導入が本格化しています。

当社は、FPD製造用イオン注入装置のリーディングカンパニーとして、世界に先駆け5.5世代ガラス基板に対応したイオン注入装置"iG5"を製造販売しています。さらに6世代(1,500mm×1,800mm)ガラス基板対応の"iG6"を続けて開発し、国内外のパネルメーカーへ納入を進めております。

製品ラインナップ

低温ポリシリコンディスプレイ製造に最適な装置を提供します。

  • iG6
     対応するガラス基板サイズ:1,500mm×1,800mm
  • iG5
     対応するガラス基板サイズ:1,300mm×1,500mm
  • iG4
     対応するガラス基板サイズ:730mm×920mm

LTPS-TFT(低温ポリシリコンTFT)の特徴

LTPS-TFT(低温ポリシリコンTFT)の特徴

LTPSは液晶ディスプレイなどの電極である薄膜トランジスタ(TFT)に使われる材料のうち、およそ摂氏600度以下の低温環境下で形成するポリシリコンのことです。従来より主流として液晶に使用されているa-Si(アモルファスシリコン)と比べると次のような利点があります。

利点:

  • 高い電子移動度(最大で数百cm2/Vs、a-Siでは0.5cm2/Vs)
  • 小型で高速応答のTFT
  • ドライバーICをガラス基板上に統合させることで狭額縁化と高精細化を実現
  • 高開口率、高解像度による低消費電力

LTPS-TFTは、①スマートフォンやタブレットPC等のような中小型で高精細が要求されるディスプレイや、②TFTの高速応答が要求される有機ELディスプレイへの適用に最適と考えられています。

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