FPD制造用离子注入装置
iG4
以低温多晶硅薄膜晶体管为代表的高清晰度显示器，离子注入装置在用于驱动应用的薄膜晶体管制造中过程中，对于电气特征控制来说是不可或缺的。
以低温多晶硅薄膜晶体管为代表的高清晰度显示器，离子注入装置在用于驱动应用的薄膜晶体管制造中过程中，对于电气特征控制来说是不可或缺的。
特长
- 得到世界各国量产工厂认可的高可靠性装置
- 1台装置就可覆盖多种掺杂剂和宽注入范围(沟道～源漏电极)
- 基于独特技术的高精度离子束量计测系统和高精度玻璃衬底扫描设备，实现高分辨率和高重现性。
- 利用专有技术在不同的掺杂物配方之间进行短时间的切换。
- 利用专有技术，通过品质分离去除杂质实现高纯度注入。
- 通过双压板机构抑制注入中玻璃衬底温度上升。
- 通过电荷中和系统缓和注入中玻璃衬底带电(静电破坏，ESD)
- 得到世界各国量产工厂认可的高可靠性装置
- 1台装置就可覆盖多种掺杂剂和宽注入范围(沟道～源漏电极)
- 基于独特技术的高精度离子束量计测系统和高精度玻璃衬底扫描设备，实现高分辨率和高重现性。
- 利用专有技术在不同的掺杂物配方之间进行短时间的切换。
- 利用专有技术，通过品质分离去除杂质实现高纯度注入。
- 通过双压板机构抑制注入中玻璃衬底温度上升。
- 通过电荷中和系统缓和注入中玻璃衬底带电(静电破坏，ESD)
主要规格
玻璃衬底对应尺寸
730 mm x 920 mm
掺杂剂(离子种类)
B+、P+
离子束能量
10～80 keV
实绩
日本、中国、韩国、台湾的显示器制造商和研究所等世界各地都有购买本公司的装置。
