设备一览表EQUIPMENT LIST

EXCEED2300

离子种类：B⁺、BF2⁺、P⁺、As⁺、In⁺、Sb⁺ 等
剂量：5E10～1E17
能量：5keV～600keV

IMPHEAT-II

离子种类：Al⁺, P⁺, As⁺, B⁺, N⁺ 等
剂量：5E10 ～ 1E17
能量：5keV ～ 960keV
RT～500℃衬底加热

EXCEED400HY

离子种类：Al⁺, P⁺, As⁺, B⁺, N⁺ 等
剂量：5E10 ～ 1E17
能量：5keV ～ 960keV

BeyEX

离子种类：B⁺, BF2⁺, P⁺, As⁺, In⁺, Sb⁺ 等
剂量：5E10 ～ 1E17
能量：5keV ～ 750keV

CLARIS

离子种类：B18Hx⁺, B10Hx⁺, C16Hx⁺, C14Hx⁺, C7Hx⁺, P4⁺, As4⁺ 等
剂量：5E10 ～ 1E17
(加速)能量：4keV ～ 80keV
＊关于单体换算能量，请另行垂询。

IBE（离子束刻蚀）・离子铣削

离子种类：Ar⁺
照射能量：50～800 eV