事業・製品紹介

半導体製造用イオン注入装置

EXCEED3000AH/-Ev/-Evo/-Evo2
EXCEED9600A/-Ev/-Evo/-Evo2

ナノ・テクノロジー・ノードに対応した高い生産性と
プロセス信頼性を有した豊富な実績の中電流イオン注入装置

EXCEED3000AH/-Ev/-Evo/-Evo2<br>EXCEED9600A/-Ev/-Evo/-Evo2

特長

最適なライン構成に寄与する2モデル

  • EXCEED3000AH
     ハイコストパフォーマンスモデル
  • EXCEED9600A
     高エネルギー注入にも対応するオールラウンダー

業界最高の生産性

  • 実生産でも高スループット:G3エンドステーション
  • 低エネルギービーム量向上:V-レンズ
  • 平均オートチューン時間<2分:SMARTシステム

市場で実証された注入品質

  • エネルギーコンタミネーションの完全除去:FEM
  • 水平・垂直両方向のビーム角度フィードバック:多点ファラデーシステム&VICF

同一プラットフォーム上での進化(-Ev/-Evo/-Evo2)

  • 信頼性・プロセス互換性・パーツ互換性を維持した、最少リスクでの性能向上
  • アップグレードキット適用可能

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