事業・製品紹介

半導体製造用イオン注入装置

EXCEED400HY®

業界唯一のレーザー、パワーデバイス向け水素注入装置

EXCEED400HY®

特長

業界界唯一のレーザー、パワーデバイス向け水素注入装置

  • 高生産性を実現する大電流H+、 (H2)+ ビーム
  • H+ 400keV 注入を実現
     既存の高エネルギー注入機と比べて際立って低い
  • VCSEL大量生産の充分なフィールド経験
  • パワーデバイスライフタイム制御用のH+裏面注入にも活躍

ベストセラー中電流機EXCEEDシリーズをベースに開発

  • 高信頼性
  • 共通のメンテナンスパーツ

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