事業・製品紹介

FPD製造用イオン注入装置

iG6、iG5

低温ポリシリコンディスプレイ製造に最適な装置を提供します。

iG6、iG5

特長

  • 質量分離
  • コンタミネーション除去
  • 高精度注入
  • 高再現性
  • 広いドーズ範囲(ソース・ドレイン~Vth制御)
  • 短時間でのレシピの切替え
  • デュアルプラテンによる温度上昇抑制
  • イオンビーム中和システム

定格

基板サイズ

  • iG6:1,500mm×1,800mm
  • iG5:1,300mm×1,500mm

ガス

  • PH3/H2、BF3

ビームエネルギー

  • 10~80keV

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