イオン注入ディクショナリー

イオン注入装置用語(応用)

注入均一性

用語説明:注入均一性 / Uniformity , wafer-to-wafer uniformty , dose uniformity

同義語:-    関連語:ウェーハ内注入均一性、ウェーハ間注入均一性

イオン注入装置の能力を測り、動作を確認するパラメータのひとつに、注入均一性がある。

注入均一性は、シート抵抗やサーマルウェーブなどの手法で測定され、ウェーハ面内に注入されたイオンの分布の均一さと表現することもでき、特にウェーハ内注入均一性(ウェーハ面内均一性)と呼ぶこともある。

このほか、同一の注入条件で処理した複数のウェーハ間で、ウェーハ間での注入処理の再現性を見るために、それぞれのウェーハのシート抵抗値やサーマルウェーブ値の平均値の均一さに着目する場合は、ウェーハ間注入均一性と呼ぶ。

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