1970年代
| 1973年 | 日新電機株式会社、
HVEE (High Voltage Engineering Europe)社と技術提携 |
| 1974年 | イオン注入装置生産開始 |
| 1978年 | 200kV中電流イオン注入装置開発 |
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1980年代
| 1980年 | AT&T 30kV大電流イオン注入装置の技術導入 |
| 1981年 | 200kV中電流イオン注入装置（ベルト搬送エンドステーション）“NH-20C”開発 |
| 1982年 | 200kV大電流イオン注入装置“PR-200”開発 |
| 1983年 | イオン機器事業部設置 |
| 1984年 | 中電流イオン注入装置“NH-20S”のフルオート、デュアルエンドステーション“NH-20SD”発売 |
| 1985年 | 80kV大電流イオン注入装置“PR-80”発売 |
| 1986年 | 久世工場新設・移転
回転注入エンドステーション開発 |
| 1987年 | 新型中電流イオン注入装置“NH-20SR”発売 |
| 1988年 | 新型大電流イオン注入装置“PR-80A”、新型デュアルエンドステーション“NH-20SDR”発売 |
| 1989年 | 8インチパラレルビーム中電流イオン注入装置“NH-20SP”開発
量産用400kV中電流イオン注入装置“NH-40SR”納入 |
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1990年代
| 1991年 | 8インチ大電流イオン注入装置“EXCEED8000”開発 |
| 1993年 | 回転注入機構付き中電流イオン注入装置で“市村産業賞”受賞 |
| 1994年 | 新型中電流イオン注入装置“EXCEED2000”開発
量産用500kV中電流イオン注入装置“NH-50SR”開発 |
| 1996年 | イオンドーピング装置（TFT-LCD用）納入本格化 |
| 1997年 | 英国（スコットランド）に日新電機欧州会社設立 |
| 1998年 | 改良型8インチパラレル中電流イオン注入装置“EXCEED2000A”発売開始
イオンドーピング装置“ID5600”発売開始 |
| 1999年 | 300mmウェハ用イオン注入装置“EXCEED2300”顧客評価開始
日新電機株式会社より製造移管を受け“日新イオン機器株式会社”設立 |
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2000年代
| 2000年 | 量産用300mmウェハ用イオン注入装置“EXCEED2300”納入開始 |
| 2001年 | 台湾に合弁会社“日亞聯合離子機器股 有限公司”設立
中国（上海）に駐在員事務所開設 |
| 2002年 | 韓国に合弁会社“韓国日新イオン株式会社”設立
中国（上海）に合弁会社“日亞意旺机械（上海）有限公司”設立
シンガポールに日新イオン機器株式会社の“シンガポール支店”開設 |
| 2003年 | 資本金を4.9億円から15億円に増資 |
| 2004年 | 新型300mmウェハ用イオン注入装置"EXCEED3000AH"発売開始 |
| 2005年 |
滋賀県甲賀市に滋賀事業所・プラズマ技術開発センターを開設
日新電機株式会社より営業権譲渡を受ける |
| 2008年 |
世界初のクラスターイオンビームを用いた
ハイブリット型イオン注入装置"CLARIS"発売開始 |
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